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實(shí)時(shí)膜厚檢測(cè)儀

實(shí)時(shí)膜厚檢測(cè)儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):DIGILEM-CPM-Xe/Halogen
  • 更新時(shí)間:2024-03-19
  • 產(chǎn)品介紹:實(shí)時(shí)的干涉測(cè)量設(shè)備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測(cè)。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導(dǎo)致不同的光路長(zhǎng)度時(shí),使用干涉測(cè)量法。通過循環(huán),系統(tǒng)能在監(jiān)控區(qū)使用實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的方法計(jì)算蝕刻和鍍膜的速度,在規(guī)定的膜厚和槽深來進(jìn)行終點(diǎn)檢測(cè)?;谶@個(gè)相對(duì)簡(jiǎn)單的理論,系統(tǒng)不但非常穩(wěn)定,并且可用于復(fù)雜的多層薄膜。
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產(chǎn)品介紹

概要

實(shí)時(shí)的干涉測(cè)量設(shè)備,提供蝕刻/鍍膜制程中高精度的膜厚及蝕刻溝深度檢測(cè)。單色光打在樣品表面,由于膜厚和高度變化導(dǎo)致不同的光路長(zhǎng)度時(shí),使用干涉測(cè)量法。通過循環(huán),系統(tǒng)能在監(jiān)控區(qū)使用實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的方法計(jì)算蝕刻和鍍膜的速度,在規(guī)定的膜厚和槽深來進(jìn)行終點(diǎn)檢測(cè)?;谶@個(gè)相對(duì)簡(jiǎn)單的理論,系統(tǒng)不但非常穩(wěn)定,并且可用于復(fù)雜的多層薄膜。

特征

  • 監(jiān)測(cè)透明薄膜的厚度和高度,如GaN,ALGaN,SiO2 和SiN。
  • 適用于等離子體頻譜分析。
  • 生產(chǎn)線使用內(nèi)置軟件。
  • 終點(diǎn)檢測(cè)法的靈活應(yīng)用。
  • *的加工特點(diǎn)。

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